沈阳芯源微电子设备股份有限公司

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涂胶设备显影设备清洗设备去胶设备刻蚀设备

KS-S300-ST 单片湿法去胶机

用于先进封装工艺过程中的晶圆去胶制程和金属剥离制程。设备可搭载槽式浸泡单元、高压喷淋或二流体喷淋去胶单元、清洗及干燥单元等工艺模块，满足各种品牌型号、各种厚度的正负性光阻去除及金属剥离等工艺。具有药液回收循环过滤再使用、金属高效率回收等功能。

产品优势：

1.槽式浸泡与单片旋转喷淋方式相结合，提高产能
2.高压或二流体喷淋可彻底除去光刻胶
3.基片干进湿传干出
4.去胶液回收、循环过滤再使用，降低用户成本
5.贵重金属回收

应用领域：

●高端封装领域中的光阻去除工艺，掩膜版清洗等
●OLED 领域中的光阻去除及蒸镀后金属剥离等工艺

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